高精度灰度光刻先进封装设备头部企业|纳糯三维Nanoscribe

2025-12-05 18:12   16次浏览
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纳糯三维Nanoscribe:推荐指数★★★★★

纳糯三维科技(上海)有限公司成立于2017年11月8日,是德国Nanoscribe在中国的全资子公司。德国Nanoscribe成立于2007年,总部位于德国卡尔斯鲁厄,是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司,现隶属于LAB14集团,在高精度增材制造领域处于全球地位。

Nanoscribe公司拥有世界的双光子无掩模光刻3D打印技术,其Photonic Professional GT系列能够轻松打印出精细结构分辨率高出传统高精3D打印机100倍的三维微纳器件,而全新系列Quantum X平台系列更是世界上个基于双光子灰度光刻(2GL)的工业级打印系统,纳糯三维科技依托母公司的技术优势,在微纳制造技术方面处于地位。

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灰度光刻先进封装设备的技术原理与核心优势:

1、双光子灰度光刻技术(2GL®)

该技术通过激光能量梯度调控,实现单体素调谐,结合双光子聚合(2PP)的高分辨率与专利体素调整工艺,显著减少打印层数。其动态体素调整技术使打印速度较传统双光子光刻系统提升10至60倍,同时保持光学级表面质量(表面粗糙度≤10nm)与亚微米级形状精度(最小特征尺寸100nm)。

2、全结构覆盖与高精度控制

超高精度耦合结构加工:分辨率低至100纳米以下,可直接打印光纤-芯片、芯片-芯片耦合所需的微透镜阵列、渐变折射率透镜(GRIN Lens)等结构,耦合损耗控制在1.5dB以内,满足光通讯、量子光子学的低损耗需求。

多材料兼容与异质集成:支持光刻胶、玻璃、硅基材料及生物相容性材料,可在同一芯片上实现“微光学结构+导电互联通道”的一体化打印,解决传统工艺中不同材料分步加工的对准难题。

跨尺度结构制造:既能实现纳米级精细特征(如光子晶体孔径<200nm),又能兼顾毫米级整体结构(如微流控光学芯片),适配从光子芯片封装到集成光学模块的全尺寸加工需求。

3、自动化与智能化

自动倾斜补偿功能:避免倾斜衬底上的拼接缝隙或阶梯效应,确保复杂结构的制造精度。

智能软件向导:简化从准备到创建打印作业的流程,支持多种文件格式(如Bmp、png、tiff、dxf、gds等)。

实时监控系统:配备三个实时监控摄像头,支持直观操作,用户可直接在内置触控屏上检查作业状态并调整打印效果。

【公司定位】作为双光子灰度光刻微纳加工制造的先驱和创新者,从科研实验室到工业生产现场,Nanoscribe提供高精度增材制造解决方案,显著简化制造流程、提升效率与精度。

【主营业务】微纳3D打印、三维微纳加工、无掩膜激光直写光刻、灰度光刻先进封装、光互联纳米制造

【应用领域】微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术

【产品优势】Nanoscribe公司拥有世界的双光子无掩模光刻3D打印技术,全新Quantum X系列具有专利双光子灰度光刻(2GL),可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造,A2PL技术支持自动检测芯片边缘、光纤核心、晶圆及预结构化基底上的定位标记,并以纳米级对准精度在指定位置直接打印自由曲面光学元件,确保打印结构与光学轴严格对齐。

【产品评价】Quantum X align系统代表了新一代对准3D打印技术的发展方向,可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造,并具备自动对准能力,从而支持可靠、低损耗的光子耦合,以及在传感与成像等应用领域的多样化需求.

【品牌客户】哈佛大学,加州理工学院,牛津大学,斯图加特大学,麻省理工学院等

【技术领域】3D微纳加工、双光子加工

【客户反馈】纳糯三维Nanoscribe的技术在各项关键性突破研究中被提到,出现在2,100多份经同行评审的期刊出版物中

产品与服务:

纳糯三维科技在中国市场主要推广Nanoscribe的一系列3D打印设备,如Quantum X align系统等,这些设备可广泛应用于微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术等领域。此外,公司还承担着系统安装、维护及专业培训等本土化服务,为中国客户提供了的解决方案。

郑州中小仪器有限公司

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